Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILTUnser Leistungsangebot
Für zahlreiche Fragestellungen ist die Verfügbarkeit intensiver Strahlung im extremen Ultraviolett (EUV) von besonderem Interesse. Kurzwellige Strahlung mit Wellenlängen im Bereich von 2 bis 50 nm eröffnet neue Möglichkeiten im Bereich der Analyse und Strukturierung von Oberflächen auf Nanometerskala. Dem Spektralbereich um 13,5 nm kommt eine besondere Bedeutung zu, da mit entsprechender Strahlung Chip-relevante Strukturen für die Halbleiterindustrie erzeugt und analysiert werden können.
Das Fraunhofer ILT entwickelt applikationsangepasste Quellen, die Strahlung im EUV-Bereich zur Verfügung stellen, und hochsensitive messtechnische Verfahren. Mit EUV-Spektrometern lassen sich z. B. Reflexionsgrade von Materialproben und nanostrukturierten Proben bestimmen. Mithilfe modellbasierter Verfahren können die optischen Konstanten sowie weitere geometrische und chemische Eigenschaften der untersuchten Proben rekonstruiert werden. Dazu zählen Strukturabmessungen periodischer Oberflächenstrukturen, Schichtdicken und Rauheiten von Vielschichtsystemen sowie die Stöchiometrie und Dichte von Materialien.
Einsatzgebiete liegen im Umfeld der EUV-Lithographie, der Nanostrukturierung, der Röntgenmikroskopie oder der Reflektometrie zur Analyse von Oberflächen. Am Fraunhofer ILT werden zudem EUV-Spektrometer entwickelt, die sich dank kompakter Bauweise auch für die direkte Prozessüberwachung etwa in der Halbleiterfertigung eignen. Die Plasmaspektroskopie kommt beispielsweise bei der Sortierung von Metallschrotten zum Einsatz.
Das Leistungsangebot umfasst Machbarkeitsstudien zu kundenspezifischen Aufgabenstellungen, die Entwicklung von EUV-Technologie und die Integration in Fertigungsprozesse sowie individuelle Beratung.
