Das Auflösungsvermögen in der klassischen Mikroskopie ist durch Beugung stets auf etwa die halbe Wellenlänge des verwendeten Lichts begrenzt. Im sichtbaren Licht lösen konventionelle optische Mikroskope bestenfalls Strukturen von einigen Hundert Nanometern räumlich auf. Im Infrarotbereich, welcher für die spektrale Analyse vieler Stoffe besonders interessant ist, z. B. bei Anregungsbanden von Molekülen der sogenannten Fingerprint-Region, sind Untersuchungen auf der Nanometer-Skala mit dieser Methode ausgeschlossen. Die Technik der Nahfeldmikroskopie umgeht diese grundlegende Begrenzung und analysiert verschiedenste Materialien optisch mit einer räumlichen Auflösung von typischerweise 20 nm – unabhängig von der Wellenlänge des eingestrahlten Laserlichts!
Grundelement der Messmethode ist ein Rasterkraftmikroskop, welches die Probenoberfläche scannt. Dieses Verfahren liefert die Topographie der Probe. Eine Optik fokussiert zusätzlich Laserlicht auf den Bereich der Tastspitze. Das zurückgestreute Licht enthält Informationen über die optischen Eigenschaften der Probe. Die räumliche Auflösung ist hierbei nur noch durch die Geometrie der Tastspitze begrenzt.
Im Gegensatz zu anderen Messverfahren mit Nanometer- Auflösung, z. B. Tunnel- oder Elektronenmikroskopie, ist die Nahfeldmikroskopie sowohl auf die chemischen und strukturellen als auch die elektronischen Eigenschaften des untersuchten Materials sensitiv. Selbst Strukturen unter der Oberfläche, welche in rein topographischen Aufnahmen verborgen bleiben, sind zu erkennen.
Die Nahfeldmikroskopie kombiniert die hohe Ortsauflösung eines Rasterverfahrens mit der Informationstiefe spektroskopischer Analysetechniken.