Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILTUnser Leistungsangebot
Die Mikroskopie mit Strahlung aus dem extremen Ultraviolett-Bereich (EUV) bzw. mit weicher Röntgenstrahlung (insbesondere mit Wellenlängen im Bereich 2 nm bis 13 nm) kommt in der strukturellen Analytik oder bei materialwissenschaftlichen Fragestellungen zum Einsatz und ermöglicht die hochaufgelöste Untersuchung z. B. biologischer Proben.
Mit einer Kryo-Fixierung lassen sich beispielsweise dreidimensionale Bilder von ganzen Zellen mit einer Auflösung im Bereich einiger zehn Nanometer anfertigen. Bei Einsatz von Markern kann damit auf ein zeitaufwändiges Anfertigen von Schnitten und anschließender Untersuchung mit dem Elektronenmikroskop verzichtet werden. In der Halbleiterelektronik lassen sich stromdurchflossene Leiter mit hoher Auflösung untersuchen, sodass die Entstehung von Fehlstellen sichtbar gemacht werden kann.
Der effektive Einsatz dieser Technologie erfordert große Strahlungsflüsse auf der Probe, die üblicherweise nur an Elektronenspeicherringen erzeugt werden können. Die Wissenschaftler des Fraunhofer ILT entwickeln vor diesem Hintergrund Plasmaquellen, bei denen gepulste Hochstromgasentladungen genutzt werden, sowie entsprechende lichtstarke Quelle-Kollektorsysteme, die den Bau leistungsfähiger EUV- und Röntgenmikroskope im Labormaßstab ermöglichen. Die umfangreichen Erfahrungen mit diesem Strahlquellenkonzept werden insbesondere auch im Bereich der EUV-Lithografie genutzt.
Das Leistungsangebot umfasst Machbarkeitsstudien zu kundenspezifischen Aufgabenstellungen, die Entwicklung von angepassten Strahlungsquellen und Mikroskopieverfahren sowie individuelle Beratung.
