Fraunhofer-Institut für Lasertechnik ILTUnser Leistungsangebot
Für die Entwicklung neuer Bauelemente in der Halbleiterindustrie ist die genaue strukturelle und elektronische Charakterisierung von entscheidender Bedeutung. Konventionelle optische Analysetechniken sind prinzipiell für die Untersuchung dieser Eigenschaften geeignet, allerdings ist die durch Beugung begrenzte räumliche Auflösung für moderne Halbleiterstrukturen nicht ausreichend. Die Lasermikroskopie, beispielsweise in Form der Nahfeldmikroskopie (Scattering Near-Field Optical Microscopy, SNOM) mit Breitband-Lasern eignet sich hingegen sehr gut für entsprechende Analysen. Durch ein am Fraunhofer ILT entwickeltes, breitbandig durchstimmbares Lasersystem im mittleren Infrarot lassen sich neue Spektralbereiche erschließen und beispielsweise Verspannungen im für die Industrie relevanten Galliumnitrid untersuchen. Ebenso können Dotierkonzentrationen oder freie Ladungsträger in verschiedenen Materialien untersucht werden.
Nanokompositwerkstoffe lassen sich mit der Lasermikroskopie ebenso untersuchen wie handelsübliche Verbraucherprodukte, etwa mit Nanopartikeln versetzte Kosmetikartikel. Dabei werden neben der Nahfeldmikroskopie weitere Technologien genutzt, unter anderem Konfokale Laser-Scanning-Mikroskopie, Multiphotonen-Mikroskopie, Fluoreszenz-Lifetime-Imaging (FLIM) und Polarisationsmikroskopie sowie Kombinationen von Fluoreszenz und Raman-Mikroskopie.
Das Leistungsangebot umfasst Machbarkeitsstudien, applikationsspezifische Untersuchungen mit verschiedenen Mikroskopiemethoden, die Entwicklung von laserbasierten Prozessen beispielsweise für die Materialanalytik sowie individuelle Beratung.
